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  • 磁控溅射系统靶中毒的现象和解决办法

    一：磁控溅射系统靶中毒现象(1)正离子堆积：靶中毒时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。（2）阳极消失：靶中毒时，接地
    发布时间：2022-11-21   

  • 磁控溅射系统的环保特性

    磁控溅射系统能够有效的提高产品的质量，特别是使用在一些金属材质上的时候，其不仅能够让其具备绝缘的效果，还能够提水抗腐蚀程度的水平。在目前的市场中磁控溅射系统设备适用于电子、机械、建筑和其他领域的金属及介电涂层市场的很大一部分份额。该设备是对
    发布时间：2022-10-28   

  • 磁控溅射系统的常见故障及解决办法

    磁控溅射是物理气相堆积的一种,磁控溅射系统通过在靶阴极外表引入磁场，使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢？磁控溅射镀膜常见毛病及解决办法1.无法起辉（1）直流电源毛病，查
    发布时间：2022-08-16   

  • 离子束溅射系统在铝型材上的应用

    离子束溅射系统是专业在塑料表面进行蒸发镀铝的专用设备，它成膜速率快，膜层牢固，色泽鲜亮，膜层不易受污染，电镀设备可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层，不产生废液、废水，可避免对环境的污染，是大规模生产的理想设备。设备应用广泛，主要有汽车反
    发布时间：2022-07-30   

  • 磁控溅射技术是常用的！

    磁控溅射技术是常用的！磁控溅射技术是常用的一种物理气相沉积技术。磁控溅射镀膜机可用于制备金属、半导体、绝缘体等多种薄膜材料，具有设备成熟、易于控制、镀膜面积大、附着力强等优点，因此被广泛使用。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！可见光波段：阴极
    发布时间：2022-05-31   

  • 磁控溅射镀膜仪的特点！

    磁控溅射镀膜仪的特点！磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！磁控溅射是物理气相沉积（PhysicalVap
    发布时间：2022-05-31   

  • 磁控溅射镀膜仪的种类

    磁控溅射镀膜仪的种类磁控溅射品种磁控溅射包括很多品种。各有不同作业原理和使用目标。但有一共同点：使用磁场与电场交互作用，使电子在靶外表邻近成螺旋状运转，然后增大电子撞击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。靶源
    发布时间：2022-04-20   

  • 磁控溅射镀膜仪的原理！

    磁控溅射镀膜仪的原理！磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！用磁控靶源溅射金属和合金很容易
    发布时间：2022-04-19   

  • 磁控溅射镀膜设备原理及发展起源

    磁控溅射镀膜设备的工作原理要从一开始的“溅射现象”说起。人们由起初发觉“溅射现象”发展至“溅射镀膜”此间历经了相当长的发展时间，溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了。不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究，认为这
    发布时间：2022-03-23   

  • 磁控溅射设备是在两溅射的基础上开发的

    磁控溅射设备对环境友好，耗材少，成膜均匀细密，与基体的结合力强。和传统的镀膜办法比较，磁控溅射镀膜设备具有许多的长处，如装修效果好，金属质感强，易于操作等。特别在非金属物件的应用上，有着传统电镀无法比拟的优势。磁控溅射体系的作业原理是电子在
    发布时间：2022-03-02   

  • 磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用

    磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层
    发布时间：2022-02-18   

  • 磁控溅射镀膜仪技术发展趋势

    磁控溅射镀膜仪技术发展趋势等离子体溅射的基本过程是负极的靶材在位于其上的等离子体中的载能离子作用下，靶材原子从靶材溅射出来，然后在衬底上凝聚形成薄膜；在此过程中靶材表面同时发射二次电子，这些电子在保持等离子体稳定存在方面具有关键作用。溅射技
    发布时间：2022-02-10   

  • 浅谈离子束溅射系统应用的几个特点

    浅谈离子束溅射系统应用的几个特点镀层附着性能好普通真空镀膜时，蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀，在工件表面与镀层之间，形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是说比一根头发丝的百分
    发布时间：2019-05-10   

  • 离子束溅射系统维护的好处

    不管是什么机械产品，想要长久地使用下去，以及在日常使用中有着优良的性能，对于其日常的保养维护肯定是必不可少的。今天给大家说说离子束溅射系统日常保养和维护的好处。一般根据说明书保养和维护的离子束溅射系统，能有效地延长离子束溅射系统的使用寿命，
    发布时间：2019-05-10   

  • 离子束溅射系统的实际应用

    离子束溅射系统的应用范围主要可以分为两大类，一类为工具类产品的镀膜，一类为装饰镀膜。对于前者的镀膜，有着延长其使用寿命的作用，对于后者则更多的是表面装饰。工具类镀膜以刀具为例，在其硬质合金打造的刀身表面进行离子镀膜之后，其表面的硬度和自润滑
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射镀膜的原理以及优缺点

    真空镀膜工艺分为多种，包括有真空磁控溅射镀膜，蒸发镀以及光学离子镀。现在主要来讲讲磁控溅射镀膜的原理以及优缺点是什么，让大家对这个电镀工艺有所了解，对产品电镀的选用工艺有所帮助。首先，真空磁控溅射镀膜通常应用在金属产品上面，原理为在电场作用
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射系统的原理是什么？

    磁控溅射系统的原理是稀薄气体在反常辉光放电发生的等离子体在电场的效果下，对阴极靶材外表进行炮击，把靶材外表的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有必定的动能，沿必定的方向射向基体外表，在基体表面构成镀层。溅射镀膜开
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射镀膜仪靶材的主要方法

    由于磁控溅射镀膜仪的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度，以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。实现的途径主要有以下几种：a、靶材设计与改进b、增强磁控溅射阴极的磁场c、
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用

    近年来，随着新材料的开发，尤其是薄膜材料的发展和应用，带动控溅射沉积技术的飞速发展，在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了控溅射沉积镀膜技术的工艺过程及其发展情况，各种主要磁控溅射镀膜仪的特点，并介绍磁控溅射技术在
    发布时间：2019-05-10   

  • 蒸发镀膜和溅射镀膜的区别

    真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子束溅射系统。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，
    发布时间：2019-05-10   
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